第二届国际红外成像高端论坛——非制冷红外成像技术的海量应用
2017-07-19 20:10:30   来源：麦姆斯咨询   评论：0   点击：

论坛背景：

"第二届国际红外成像高端论坛--非制冷红外成像技术的海量应用"由法国权威分析机构Yole Développement和中国国际光电博览会（CIOE）共同组织，将于2017年9月7日与CIOE 2017在深圳会展中心同期举办。本次会议将聚集全球顶尖红外行业专家与企业，共同探讨红外成像行业的最新应用和技术，让与会者获得最新最有价值的行业分析，更有机会与行业龙头企业面对面交流合作。

论坛亮点：

- 2场主题分会聚焦红外成像应用和红外技术的最新进展

- 100+的听众将来自 Dali, Veeco, Sony, Ophir, Honeywell, i3system, Fluke, Flir, Melexis, Oxford Instruments Plasma 等业内知名企业

- 外商名企云集：ULIS, Ophir, Optris, HIK Vision, Heimann Sensors, SST Vacuum Reflow Systems, Fraunhofer Institut for Electronic Nano Systems ENAS等

- 高端的商务洽谈环境-充分的茶歇、自助午餐、交流欢饮酒会时间，让您直接与行业领导，企业高层面对面交流

论坛日程 2017年9月7日 深圳会展中心

听会注册

参会费用：
1）2017年8月5日前报名听会享受优惠价1600元/人。
2）2017年8月5日后报名听会按原价2000元/人。
注册链接：https://www.eiseverywhere.com/ereg/index.php?eventid=257807&&

备注：费用包含参会，资料，中英文同传，茶歇，午餐，和欢迎酒会等，交通及住宿费需参会者自理。

更多会议及赞助信息，请联系：

易小姐，联系电话：0755-88242569，电子邮件：Shirly.Yi@cioe.cn

邓先生，联系电话：0755-88242571，电子邮件：Derek.Deng@cioe.cn