北方微电子DSE200L荣获“第九届中国半导体创新产品和技术项目”奖
2015-04-01 21:02:17   来源：微迷   评论：0   点击：

北方微电子自主研发的新产品DSE200L产品荣获了“第九届中国半导体创新产品和技术项目”奖。“中国半导体创新产品和技术”评选活动由中国半导体行业协会、中国电子材料行业协会、中国电子专用设备工业协会和中国电子报共同举办，以鼓励半导体产业创新发展，提升产业的产品和技术水平。在中国半导体行业具有极高的知名度和公信力。

DSE200L深硅等离子体刻蚀设备是一款面向MEMS、电力电子器件、3D封装领域的高端微电子装备。该设备可采用Bosch工艺，能实现高达70：1的深宽比同时实现高速刻蚀，达到行业最高水平。另外，该设备能在进行精确角度控制的同时实现Non-Bosch工艺高达25:1的深宽比刻蚀，以及速率高达25微米/分钟的Non-Bosch斜孔刻蚀，可满足陀螺仪最精细的刻蚀工艺标准和背孔传感器最快捷的刻蚀速率要求，并可以拓展至石英传感器等应用领域。此外，设备具有集成化程度高，占地面积小，工艺兼容性强等特点。该设备一经推出，就凭借其优异的机台性能，极具竞争力的设备产能及使用成本，获得了客户的高度认可。

此次北方微电子公司DSE200L荣获“中国半导体创新产品和技术项目”奖，是业界对北方微电子DSE200L产品创新性和先进性的肯定，北方微电子将再接再厉，希望通过不断地技术创新，携手业界同仁共同推动中国高端微电子装备产业的发展。