新型光刻机提升微纳实用制造水平
2016-03-25 06:44:37 来源：麦姆斯咨询 评论：0 点击：
设备采用的新型纳米对准技术，成功将原光刻设备的对准精度由亚微米量级提升至纳米量级，是实现功能化器件加工的关键。其应用突破了现有纳米尺度结构加工的瓶颈问题，为高精度纳米器件的加工提供了技术保障。设备可广泛应用于微纳流控芯片加工、MEMS器件等器件的制备。
中科院光电技术研究所微电子专用设备研发团队，近日自主研制成功紫外纳米压印光刻机。该机器将新型纳米压印高分辨力光刻技术与紫外光刻技术有机结合，成本仅为国外同类设备的1/3，并在同一加工平台上实现了微米到纳米级的跨尺度图形加工，使我国微纳实用制造水平迈上新的台阶。
光刻机是实现微纳图形加工的专用高端设备，它的出现使集成电路得以诞生，引发了第三次工业革命，人类进入信息时代。长期以来，发达国家对光刻机这样的战略装备采取“禁运”和技术封锁，即使不禁运，光刻机也价格昂贵，严重制约了我国高端信息产业的发展。
微电子装备总体研究室主任胡松表示，设备采用的新型纳米对准技术，成功将原光刻设备的对准精度由亚微米量级提升至纳米量级，是实现功能化器件加工的关键。其应用突破了现有纳米尺度结构加工的瓶颈问题，为高精度纳米器件的加工提供了技术保障。设备可广泛应用于微纳流控芯片加工、微纳光学元件、微纳光栅、MEMS器件等微纳结构器件的制备。