Picosun原子层沉积设备及解决方案实现顶尖硅光子技术
2020-04-04 16:17:54 来源：麦姆斯咨询 评论：0 点击：
据麦姆斯咨询报道，近日，芬兰设备厂商Picosun凭借其ALD（Atomic Layer Deposition，原子层沉积）设备及解决方案，在开发顶尖光子技术领域取得了骄人的成绩。
据麦姆斯咨询报道，近日，芬兰设备厂商Picosun凭借其ALD（Atomic Layer Deposition，原子层沉积）设备及解决方案，在开发顶尖光子技术领域取得了骄人的成绩。
光波导放大器和激光器等光学器件是光学数据传输的核心组件，也是实现社会现代化、互联化、信息驱动化的关键技术之一。
硅光子集成技术推动了光学器件的进一步发展，光学解决方案克服了传统技术中的一些关键挑战，从而开创全新的微电子技术时代。
阿尔托大学运用ALD技术制造Er:Al2O3光波导放大器
掺铒光波导放大器和激光器是信号产生和通信波长放大的最具潜力的候选器件。为了使这些器件达到最佳性能，必须严格优化和控制主体材料中铒原子的数量和空间分布。只有ALD技术才能满足上述要求。
来自芬兰阿尔托大学（Aalto University）孙志培教授，同时也是Picosun的客户之一，现已通过Picosun的ALD技术，与其国际合作伙伴在Micronova（芬兰国家微型和纳米技术研究基础设施，由芬兰VTT技术研究中心和阿尔托大学联合运营）共同开发出了创世界纪录的高性能掺铒硅光子集成波导放大器。
“硅光子集成技术已被光学领域的公司所采用，是微电子技术的未来发展方向。我们对PICOSUN® ALD设备的性能以及其制造出的Er:Al2O3光波导放大器的出色质量感到非常满意。遇到问题时，Picosun的客户支持和咨询人员随时为我们提供优质服务。ALD技术可与CMOS工艺兼容，进一步促进了我们的光波导芯片的商业化生产。”来自阿尔托大学电子与纳米工程系的John Ronn博士说道。
“ALD技术自从发明以来，一直是未来颠覆性技术的助力剂。Picosun很高兴与该领域的专家合作，例如阿尔托大学就是我们的尊贵客户。我们的ALD解决方案为他们提供了实现创新性工作的方式，从而开发更先进的通信和数据传输技术，以实现更加互联、开放和一体化的全球性社会。”Picosun Asia Pte的首席执行官Edwin Wu说道。
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