NILT发布用于AR和VR的平面光学元件，提升3D传感和机器视觉性能
2022-04-01 14:19:01   来源：麦姆斯咨询   评论：0   点击：

据麦姆斯咨询报道，近日，总部位于丹麦哥本哈根的先进光学解决方案提供商NIL Technology（以下简称：NILT）发布适用于“元宇宙（Metaverse）”产品中的3D传感和机器视觉应用的高精度纳米结构平面光学元件。

NILT表示，其紧凑的平面光学元件可使3D传感与成像系统所需的组件减少并提高成像质量，因此“元宇宙（Metaverse）”的关键AR和VR设备将变得更小、更轻、更高效。

集成了单个超透镜的940 nm近红外成像镜头（来源：NILT）

更小且更轻

NILT认为，对于“XR”行业来说，眼镜和头显需要更加小巧且轻便——尽管它们随着时间的推移在功能和质量上有了显著的改进。XR包括虚拟现实（VR）、增强现实（AR）和混合现实（MR）技术和应用，例如所谓的“智能眼镜”。

NILT首席执行官（CEO）兼创始人Theodor Nielsen评论说：“我们新型平面光学技术平台提供94%的效率，非常适合3D传感与成像，并具有传感和机器视觉应用所需的精度和能效，以提供引人入胜的虚拟世界体验。我们的平面光学元件使XR制造商能够以商业和消费市场所需的规模生产更轻且性能更好的设备。”

NILT认为，十多年来，智能手机和其它电子产品中摄像头的镜头并没有出现革命性的变化，依然停留在陈旧的理念“镜头由多片体积较大的折射镜头或镜片堆叠实现”。NILT的使命是通过显著减少镜头系统的尺寸和复杂性，为智能手机摄像头带来革命性的变化。

NILT平面光学元件比当今使用的“经典”折射镜头更平、更薄、更轻，展示了前所未有的光学元件简单性，并可供元宇宙（Metaverse）的关键AR和VR设备OEM厂商使用。NILT的平面光学技术平台可以在AR和VR设备中提供更好的成像质量，并为大规模生产应用做好准备。

NILT在高精度纳米结构领域拥有超过15年的经验积累，并正在利用这一经验实现超光学元件（MOE）的快速原型化和批量生产。MOE原型是通过高质量电子束光刻（EBL）实现的，其生产周期明显短于深紫外光束成像（DUV）。

此外，EBL具有超高的分辨率、高度的设计自由度。在量产阶段选用对超原子几何形状没有限制的纳米压印光刻完成，确保生产出性能最佳的超透镜。此外，NILT选择纳米压印光刻技术，不会受限于半导体制造对几何尺寸的限制和工艺能力，即可实现规模生产。

NILT已经在多个层面与XR行业合作，为AR和VR设备供应商开发传感和显示技术。随着NILT的技术突破，元宇宙（Metaverse）领域的客户将受益于NILT内部从设计到量产的强大能力，高效实现3D传感与成像功能。

关于NILT

NILT成立于2006年，目前在瑞士、瑞典和丹麦设有办事处。NILT参与了多项由欧盟委员会框架研究项目支持的项目。2021年2月，NILT获得了新一轮2600万欧元风险投资。此轮融资的主要资金来自新成立的欧洲创新理事会（EIC）基金，旨在增强NILT的平面光学元件量产能力，同时努力推进新超透镜技术，缩小元件尺寸，降低系统复杂度。

延伸阅读：

《超材料和超表面技术及市场-2021版》

《AR/VR/MR光学元件和显示器-2020版》